Trumpf aumenta la eficiencia y la precisión en la fabricación de semiconductores
Trumpf garantiza una mayor precisión y eficiencia en la fabricación de semiconductores gracias a una nueva generación de fuentes de alimentación de alta frecuencia con la TruPlasma RF Series G3. “El sistema permite a los fabricantes de microchips lograr procesos de plasma más estables, lo que reduce los costes de producción y aumenta la calidad de los chips”, afirma Michael Ehinger, responsable de ventas de soluciones electrónicas para la industria de semiconductores en Trumpf. La empresa presentó la nueva TruPlasma RF Series G3 en la feria Semicon Europa celebrada en noviembre en Múnich, Alemania.
La plataforma modular ofrece niveles de potencia de 2,5 a 10 kW y se puede integrar de forma flexible en las herramientas existentes. Los usuarios también pueden actualizar fácilmente las herramientas más antiguas con ella. Al mismo tiempo, se benefician de una mayor eficiencia energética. La nueva generación de la TruPlasma RF Series G3 consume un 20 % menos de energía y genera menos calor residual. Esto reduce los costes operativos y protege el medio ambiente.
Con ella, los usuarios pueden fabricar chips de forma más eficiente, reduciendo así sus costes de producción. Durante el grabado por plasma, por ejemplo, el sistema mide continuamente la reacción del plasma y ajusta la energía en tiempo real. Esto garantiza procesos de fabricación estables y una calidad de capa constante en toda la oblea. La interfaz de usuario integrada, basada en navegador, permite supervisar y modificar todos los parámetros del proceso de forma fácil y eficiente durante la cualificación del sistema sin tener que instalar software adicional.
