Busch Ibérica, S.A. - Equipos para el tratamiento de gases industriales

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Sistemas de eliminación de gas: combina la oxidación térmica catalítica sin llama y la tecnología de tratamiento húmedo para destruir gases inflamables, solubles en agua y NF3

Foto de Sistemas de eliminación de gas
La industria de semiconductores utiliza gases que son tóxicos, inflamables e incluso perjudiciales para el medioambiente y para el ser humano. Por ejemplo, en la producción de microchips. Según la legislación nacional, estos gases deben eliminarse. Esto significa que se reducen por debajo del valor límite umbral (TLV, por sus siglas en inglés).

Cada gas requiere una tecnología de tratamiento distinta, como la térmica, la húmeda o incluso una combinación de ambas tecnologías. Después de ello, los gases de escape de procesos pueden liberarse a la atmósfera. Sin dañar el entorno natural. Para un mundo más verde.

Principio de funcionamiento:

- Sistema catalítico sin llama:

Este sistema catalítico combina la oxidación térmica catalítica sin llama y la tecnología de tratamiento húmedo para destruir gases inflamables, solubles en agua y NF3. El polvo y los gases solubles en agua que pueden generarse durante la oxidación térmica serán capturados en una zona de humidificación multietapa previa.

- Húmedo-térmico:

La tecnología de tratamiento eléctrico de calor y humedad se combina en un sistema para eliminar los gases con hidruros, como el NH, el SiH, así como el NF3. En la cámara de combustión se cambia la composición química de los gases de proceso inflamables y pirofóricos mediante oxidación térmica. Los gases solubles en agua se disuelven en la cámara húmeda previa.

- Scrubber húmedo:

En cuatro cámaras de reacción individuales se pulveriza con agua el flujo de gas de escape, especialmente el procedente de los procesos de epitaxia. Los subproductos sólidos se capturan en gotas de agua y se disuelven. A continuación, se separa el agua del flujo de gas de salida mediante un sistema de absorción.