La metrología acompaña a la fábrica del futuro en Metromeet
Del 17 al 18 de marzo de 2015 el Palacio de Congresos Euskalduna de Bilbao fue el escenario de la undécima edición de Metromeet, la conferencia internacional en el sector de la metrología dimensional industrial que informa sobre las últimas tecnologías y los progresos logrados en el sector. Organizado como un foro de debate sobre metrología y su desarrollo en una industria cambiante, Metromeet expone los nuevos desarrollos digitales y ópticos así como las nuevas normas europeas e internacionales. Durante los dos días de la conferencia los expertos participantes mostraron nuevos métodos de trabajo que mejoran los procesos industriales y la productividad de las empresas. Entre otros, Metromeet reunió a profesionales de las empresas y organismos más importantes en metrología como General Electric, Innovalia Metrology, CEM, Renishaw, NPL e IK4-Tekniker.
El primer día se impartieron con conferencias ‘tutoriales: ‘Cómo medir sin contacto. Introducción al digitalizado óptico y 3D’ por parte de Ainhoa Etxabarri, de Unimetrik, y ‘Manufacturing Intelligence: Cómo transformar datos masivos en conocimiento útil’, de la mano de Toni Ventura-Traveset, de Datapixel. Tras la pausa café y la inauguración formal, se desarrolló la ponencia principal ‘Cero defectos de fabricación. Necesidades de control de calidad en aeronáutica’ de la mano de Jens Lübbehüsen, de GE Measurement & Control.
Tras el almuerzo, las ponencias se centraron en la presentación de soluciones prácticas en metrología y en sistemas ópticos: George Gibbons, de Renishaw, expuso la intrucción de los procesos de control al proceso productivo, Sara González, de Trimek, presentó un innovador sistema de control de calidad proactivo para reducir los defectos en las diversas etapas de un proceso, mientras que Emilio Prieto, del CEM, expuso el proyecto SIB58.
Paralelamente, Alexander Schöch, del a Universidad de Padua, planteó la medición rápida de piezas forjadas de formas complejas a alta temperatura mediante láser de triangulación. Tras él, Ines Ben Messaoud Ben Arbia y el Dr. Hammoud Al Joumaa, de PHIcom GmbH, presentaron Saica: un sistema automático para los cuerpos de inspección basado en el análisis heurístico, mientras que Guilherme Mallmann, del Fraunhofer IPT, expuso una solución basada en la interferometría de alta precisión y de baja coherencia para el control de procesos y control de calidad en la fabricación láser de metales y plásticos.
Martin Kodde, ganador del Premio al Mejor Ponente
Cada año, el comité técnico de Metromeet premia a uno de los ponentes por impartir una excelente presentación. Esta edición el galardón fue para Martin Kodde (Fugro, Holanda), por su presentación ‘Point Clouds: Large Scale Management and Processing’. El Comité Técnico destacó la alta calidad de su presentación así como su aplicabilidad real.
En el segundo día de conferencia la ponencia central fue impartida por Martin Kodde, de Fugro, basada en la ‘Nube de puntos, gestión y procesado a gran escala’. Precisamente esta ponencia fue considerada como la mejor presentación de Metromeet 2015.
Tras la pausa café se inicio el llamado ‘MetroLab’ donde dos mesas en paralelo trataban sobre Software por una parte y micro y nanotenología por otra. Así, en la primera, Miguel Ángel Urritia, de CBT, expuso cómo mejorar la gestión de la información, rellenando la brecha existente entre datos de diseño y metrología. Jan Erik Nitsche por su parte, de Iprom, presentó un sistema de medida de transmisión basado en la deflexometría, seguido de Óscar Lázaro, de Innovalia, que mostró la la evolución de los softwares de metrología dimensionales con ejemplos de sistemas de control de calidad en la ‘fábrica inteligente’.
En el apartado sobre micro y nanotecnología, James Claverley, de la británica NPL, habló sobre sistemas de microsendores de metrología por microcoordenadas como la solución a los retos de medición que suponen los productos industriales más innovadores. A continuación, Sebastian Buetefish, de PTB, expuso el principio de las microsondas piezoresistivas 3D para aplicaciones CMM. Cerró el tema Philippe Mailot, de STMicroelectronics con una presentación sobre los retos y limitaciones en la industria de los semiconductores.
Tras la comida, cerraron la jornada dos mesas más, una enfocada a la metrología industrial —con una presentación de Raúl Leunda, de EPC sobre las soluciones de metrología de alto rendimiento para el control de calidad en las redes de fabricación global— y otra sobre calibración, verificación y estándares. En este caso las presentaciones fueron a cargo de Juan José Melero, del Inta, sobre en nuevo patrón para reglas rígidas de trazados, y Aitor Olarra, de Tekniker, sobre la trazabilidad en procesos de medición tridimensional.
